Cicaluronic Low pH Cleanser

Este jabón fue creado para el cuidado de pieles deshidratadas, sensibles y mixtas. Equilibra el pH de la piel, está diseñado para eliminar la suciedad, las micropartículas y residuos de maquillaje.

Contiene Centella Asiática y ácido hialurónico, estos ingredientes proporcionan a la piel un sistema de barrera calmante que evita que se deshidrate, ayudando a la absorción los siguientes pasos. Formulado con 7 tipos de Centella Asiática y 8 tipos de ácido hialurónico.

120 ml

Q170.00

Sin existencias

SKUM19 CategoriesAnti Edad, Doble Limpieza, K / 10 Pasos, Normal, Opaca, Resequedad, Seca, Sensible TagMizon

Descripción
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Modo de uso

Tome una cantidad adecuada y aplique sobre manos húmedas hasta crear una espuma.

Masajear suavemente la espuma por todo el rostro y enjuagar con abundante agua.

Paso en la rutina

PASO 2. DOBLE LIMPIEZA
Retira los residuos del primer paso y termina de limpiar la contaminación de la piel, mientras la acondiciona para seguir con los pasos restantes de la rutina.

Ingredientes

Water, Glycerin, Sodium Cocoyl Isethionate, Hydrogenated Coconut Acid, Glycol Distearate Synthetic Wax, Polyglyceryl-3 Methylglucose Distearate Cetearyl Alcohol, Sodium Isethionate, Glyceryl Stearate 1,2-Hexanediol, Coco-Betaine, Hydroxyacetophenone Polyquaternium-67, Sodium Chloride, Centella Asiatica Root Extract, Centella Asiatica Extract Centella Asiatica Leaf Extract, Disodium EDTA, Sodium Acetate Sodium Hyaluronate, Isopropyl Alcohol, Gluconolactone Capryloyl Salicylic Acid, Hydrolyzed Hyaluronic Acid Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Hyaluronic Acid Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Potassium Hyaluronate Pentylene Glycol, Sodium Hyaluronate Crosspolymer Sodium Acetylated Hyaluronate, Madecassoside, Asiaticoside Asiatic Acid Madecassic Acid

*Lista de ingredientes ésta sujeta a cambios, según a discreción del fabricante. Para obtener la lista de ingredientes actualizada, consulte el empaque del producto.